Soluções de salas limpas para a indústria aeroespacial e de fabricação de precisão
May 9, 2025
I. Montagem de componentes de satélite
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Salas limpas controladas por vibração
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Plataformas de isolamento de vibração ativa: Integrado com salas limpas modulares para atingir níveis de vibração < 1 μm/s2 para alinhamento sensível do giroscópio/antena.
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Ambientes da classe ISO 3: FFU com filtros ULPA (99,9995% @ 0,12μm) impedem a deposição de micro-partículas nos sensores ópticos.
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Sistemas de ar seco: Mantenha a HRC ≤ 5% para evitar a desgaseificação durante a cura por epoxi em câmaras de simulação a vácuo.
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Selo e ensaio herméticos
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Passagem através da caixa de luvas: Transferir componentes sob atmosfera de argônio para evitar a oxidação.
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Salas limpas de pressão negativa: Ensaios de válvulas de combustível isoladas com filtragem HEPA (ISO 14644-1 Classe 4).
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II. Dispositivos ópticos de precisão
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Poluição e revestimento de lentes
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Estações de trabalho de fluxo laminar da classe 2 da ISO: O fluxo de ar filtrado por ULPA elimina partículas de 0,1 μm durante o pulverizador de feixe de íons.
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Salas limpas com temperatura estável: ± 0,5°C de controlo através de painéis modulares para minimizar a deriva térmica na calibração do interferômetro.
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Montagem do sistema a laser
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Zonas protegidas pela DSEPara os equipamentos de embalagens de laser de cascata quântica, os pavimentos condutores + as FFU ionizantes mantêm uma tensão estática < 10 V.
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Robótica compatível com salas limpas: Alinhamento automatizado de fibras em ambientes de classe ISO 4.
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III. Síntese de nanomateriais
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Produção de nanotubos de grafeno/carbono
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Salas limpas de filtração química: As FFU com filtros de carbono ativado adsorvem subprodutos de COV durante a síntese de CVD.
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Câmaras de gás inerte: Salas limpas modulares com sistemas de depuração de azoto (< 1 ppm O2) para processos de gravação de MXene.
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Fabricação de pontos quânticos
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Caixas de luvas filtradas pela ULPA: Controlar a distribuição do tamanho das nanopartículas através da eliminação de partículas ambientais (< 0,05 μm).
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Diminuição de vibração passiva: Estruturas de salas limpas com isolamento de frequência natural de 10 Hz para caracterização de AFM.
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IV. Tecnologias essenciais
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Desempenho hiperlimpo: atingir ≤ 1 partícula/ft3 (≥ 0,1 μm) em zonas da classe ISO 1.
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Controle de múltiplos parâmetros: Gestão simultânea das vibrações (VC-D), EMI (< 1mV/m) e temperatura (± 0,1°C).
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Conformidade: Cumprir os padrões da NASA STD-3001, MIL-STD-1246C e ISO 14644-1 Classe 1.
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Monitorização baseada em IAAnálise preditiva do contador de partículas para controlo de processos Six Sigma.