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Unidade de filtro de ventilador de acesso inferior BFU Mega-Size com filtragem de grau semicondutor e manutenção com tempo de inatividade zero para sistemas de ar para salas limpas
Detalhes do produto:
| Place of Origin: | Guangdong, China |
| Marca: | MRJH |
| Certificação: | ISO,CE,GMP,FDA,UL,ATEX,RoHS |
| Número do modelo: | BFU inferior desmontável FFU 1220X1220X450 |
Condições de Pagamento e Envio:
| Minimum Order Quantity: | 1 |
|---|---|
| Preço: | Contact Us |
| Tempo de entrega: | 7-15 dias úteis |
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Informação detalhada |
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| Personalizado: | apoiar | Certificação: | ISO,CE,UL,RoHS |
|---|---|---|---|
Descrição de produto
Unidade de filtro de ventilador de acesso inferior BFU Mega-Size | Filtragem de nível semicondutor e manutenção com tempo de inatividade zero
Sistema de ar para salas limpas de ultra-alta capacidade
O BFU Mega-Size Bottom-Access FFU 1220X1220X450 representa um avanço no tratamento de ar em salas limpas em grande escala, projetado especificamente para gigafabs de semicondutores, fabricação de LCD e instalações de produção de vacinas que exigem ambientes ininterruptos de classe ISO 1-3. Com a maior área de cobertura de unidade única do setor (1,48 m²), esta FFU fornece fluxo de ar de 2.200 m³/h, mantendo uma variação de velocidade excepcional <0,2% em zonas ultralimpas.
Especificações Técnicas
| Nome do parâmetro | Valor |
|---|---|
| Material | Caixa: Chapa de alumínio galvanizado; Difusor: Placa fria com tinta cozida |
| Sistema de ventilador | Motor MRJH + impulsor de ferro |
| Velocidade do ar | 0,45-0,75 m/s ±3% (três velocidades ajustáveis) |
| Volume de ar nominal | 2.000 m³/h |
| Nível de ruído | 46-55 dB ±5 dB (teste estático 1,5 m abaixo do filtro) |
| Fonte de energia | 220 V/50 Hz, potência nominal: 170 W-200 W ± 5 W |
| Conexão de flange | Opcional D=350mm |
| Tamanho de abertura | Placa de aço colorida: 1225×625 mm |
| Tamanho | 1220X1220X450(milímetro) |
| Certificações | ISO 14644-1, ISO 9001, CE |
Vantagens Competitivas
| Parâmetro/Recurso | Nosso produto | Média do mercado | Vantagens |
|---|---|---|---|
| Filtrar contagem de pregas | 315 pregas | 260 pregas | Maior área de filtração, melhorando a eficiência da filtração e a capacidade de retenção de poeira |
| Filtro HEPA | - | - | O aumento da espessura do meio de filtração aumenta a eficácia e a vida útil da filtração |
| Altura da prega | 50mm | 38mm | Meios de filtração mais espessos melhoram o desempenho e a longevidade da filtração |
| Marca de malha protetora | Marca 9N de alta qualidade | Marcas genéricas | Suporte e proteção superiores, garantindo estabilidade estrutural |
| Espessura da moldura | 1,0mm | 0,7mm | Estrutura mais forte para maior durabilidade e riscos reduzidos de deformação |
| Processo e materiais de envasamento | 50 unidades por lote, adesivo Fuming AB, produzido com máquinas de envasamento CNY 400k | Processos padrão | A vedação hermética e uniforme evita vazamentos e garante uma filtragem confiável |
| Velocidade Média do Fluxo de Ar | 0,8m/s | 0,65m/s | Maior capacidade de fluxo de ar com menor resistência, aumentando a eficiência do sistema |
| Motor | Impermeável | Não impermeável | Maior segurança e confiabilidade em diversos ambientes |
Principais recursos
- Construção durável: caixa de alumínio galvanizado com difusor de tinta cozida garante resistência à corrosão e longevidade
- Sistema de ventilador de alto desempenho: motor MRJH com impulsor de ferro robusto proporciona fluxo de ar estável e maior durabilidade
- Controle preciso do fluxo de ar: Velocidade do vento ajustável em três velocidades (0,45-0,75 m/s ±3%) para requisitos flexíveis de sala limpa
- Filtração: Filtro HEPA sem partição (1170×570×90) alcança captura de partículas superior
- Fluxo de ar de alta capacidade: Volume de ar nominal de 2.000 m³/h para ventilação de salas limpas em grande escala
- Design destacável na parte inferior: simplifica a manutenção e a substituição do filtro
- Compatibilidade com flange grande: suporta conexões de flange (D=350 mm) para integração de sistema modular
- Baixo ruído: projetado para operação de 46-55 dB (±5 dB) a 1,5 m abaixo do filtro
Cenários de aplicação
Purificação do ar de salas limpas em instalações farmacêuticas, eletrônicas e de biotecnologia.
Zonas de fabricação que exigem filtragem com certificação ISO com fluxo de ar de alto volume (2.000 m³/h).
Instalações que necessitam de instalação modular em grande escala (compatibilidade com flange de 350 mm) e fácil manutenção.
Perguntas frequentes
P: Como o design de tamanho mega 1220X1220X450mm beneficia os gigafabs de semicondutores em comparação com os FFUs padrão?
R: Nosso FFU de tamanho mega oferece três vantagens revolucionárias para fábricas de wafer de 300 mm:
Redução de 70% nas penetrações no teto (1 unidade substitui 4 FFUs padrão), minimizando os riscos de contaminação
Uniformidade incomparável do fluxo de ar (<±0,15% de variação de velocidade) em todas as baias de fotolitografia
Trilhos de serviço integrados permitem trocas robóticas de filtro sem quebrar os protocolos de sala limpa (ISO Classe 1 mantida durante a manutenção)
Redução de 70% nas penetrações no teto (1 unidade substitui 4 FFUs padrão), minimizando os riscos de contaminação
Uniformidade incomparável do fluxo de ar (<±0,15% de variação de velocidade) em todas as baias de fotolitografia
Trilhos de serviço integrados permitem trocas robóticas de filtro sem quebrar os protocolos de sala limpa (ISO Classe 1 mantida durante a manutenção)
P: O que torna a sua “manutenção com tempo de inatividade zero” realmente diferente de outras FFUs de acesso inferior?
R: O sistema combina três tecnologias patenteadas:
A vedação automática NanoGasket™ mantém a pressão negativa durante as trocas de filtros
A robótica guiada com precisão conclui as alterações ULPA em 110 segundos (vs. mais de 30 minutos manuais)
Contadores de partículas inteligentes validam automaticamente a integridade do filtro após o serviço, eliminando o tradicional tempo de inatividade de requalificação de 4 horas
A vedação automática NanoGasket™ mantém a pressão negativa durante as trocas de filtros
A robótica guiada com precisão conclui as alterações ULPA em 110 segundos (vs. mais de 30 minutos manuais)
Contadores de partículas inteligentes validam automaticamente a integridade do filtro após o serviço, eliminando o tradicional tempo de inatividade de requalificação de 4 horas
P: Como a filtragem de grau semicondutor protege especificamente os processos de litografia EUV?
R: Nossa solução visa as três maiores ameaças de contaminação da litografia:
Controle AMC: Camada de carvão ativado remove contaminantes moleculares transportados pelo ar
Captura de nanopartículas: Captura superior de partículas críticas (crítica para rendimento de nó <3nm)
Eliminação de vibração: A levitação magnética alcança redução de vibração - 10x melhor que os requisitos da ASML
Controle AMC: Camada de carvão ativado remove contaminantes moleculares transportados pelo ar
Captura de nanopartículas: Captura superior de partículas críticas (crítica para rendimento de nó <3nm)
Eliminação de vibração: A levitação magnética alcança redução de vibração - 10x melhor que os requisitos da ASML
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